CMOS Process क्या है? | N-well, P-well, और Twin-Tub Fabrication हिंदी में
CMOS Process क्या है?
CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) एक fabrication process है जिसमें एक ही chip पर NMOS और PMOS दोनों transistors बनाए जाते हैं। यह process high-speed, low-power और dense integrated circuits बनाने के लिए सबसे ज़्यादा उपयोग में ली जाती है।
CMOS Fabrication के लिए आवश्यकताएँ
- NMOS को बनाने के लिए P-type substrate
- PMOS को बनाने के लिए N-well (या N-type region)
- Polysilicon Gate, SiO₂ Insulation और Metal connections
CMOS Fabrication Methods
1. N-well Process
- P-type substrate चुना जाता है
- N-well diffusion के द्वारा PMOS के लिए N-type region बनाया जाता है
- Source और Drain doping – NMOS के लिए N+ और PMOS के लिए P+
- Gate Oxide और Polysilicon gate formation
- Metal connections और passivation
2. P-well Process
- N-type substrate लिया जाता है
- P-well diffusion करके NMOS बनाने के लिए P-type region तैयार किया जाता है
- PMOS N-substrate में और NMOS P-well में बनाया जाता है
3. Twin-Tub Process
- P-substrate में N-well और N-substrate में P-well दोनों बनाए जाते हैं
- Better performance tuning possible
- High density और flexibility प्रदान करता है
CMOS Process के मुख्य Steps
- Oxidation (Gate oxide formation)
- Photolithography (pattern creation)
- Ion Implantation (doping for wells, source/drain)
- Polysilicon deposition (gate)
- Metallization (connections)
- Passivation (protection layer)
CMOS की विशेषताएँ (Features)
- Very low static power consumption
- High noise margin
- Dense packing of transistors
- Temperature और voltage variations के प्रति अधिक सहनशील
Applications of CMOS
- Microprocessors (Intel, ARM)
- SRAM, ROM, EEPROM memory circuits
- ASIC (Application-Specific IC)
- CMOS image sensors
निष्कर्ष (Conclusion)
CMOS Process आज की आधुनिक electronics का foundation है। इसके द्वारा बनाए गए circuits power-efficient और compact होते हैं। N-well, P-well और Twin-tub जैसी techniques इसे flexible और high-performance बनाती हैं।
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